在材料科學的微觀世界里，一滴水的形狀，往往決定了一項技術的成敗。它是均勻成膜還是收縮成珠？是牢固附著還是輕易脫落？這些問題的答案，就隱藏在液滴與固體表面交界處那個微小的夾角——接觸角之中。而精準捕捉并解讀這一角度的儀器，正是現(xiàn)代科研與工業(yè)中的接觸角測量儀。它如同一只“智慧之眼”，透過一滴水的形態(tài)，洞察材料表面的本質(zhì)，指導著從前沿科研到規(guī)模化生產(chǎn)的各個環(huán)節(jié)。一、原理簡述：一滴水背后的科學語言接觸角（θ）是液體在固體表面達到平衡時，氣-液-固三相接觸點處，氣-液界面切線與固-液界...

引言薄層電阻（又稱方塊電阻）是表征薄膜材料導電性能的關鍵參數(shù)，直接影響光電器件、柔性電子及新型材料的研發(fā)與應用。傳統(tǒng)的四點探針法雖為行業(yè)標準，但其尖銳探針易對敏感薄膜造成機械損傷，導致測量誤差甚至樣品失效。Ossila四點探針系統(tǒng)通過創(chuàng)新的探頭設計與精密的接觸控制，實現(xiàn)了對脆弱材料的非破壞性、高精度測量，為科研與工業(yè)檢測提供了可靠解決方案。一、四點探針法的原理與挑戰(zhàn)四點探針法通過四個等間距共線探針接觸樣品表面，外側(cè)兩探針注入恒定電流，內(nèi)側(cè)兩探針測量電壓差，結合幾何校正因子計算...

濕法顯影：精準噴淋，LaurellEDC-650Hz-8NPPB如何重塑工藝均勻性與潔凈度在半導體和微納制造中，顯影工藝是光刻過程中承上啟下的關鍵一步，其均勻性、重復性與潔凈度直接決定圖形轉(zhuǎn)移的精度與良率。傳統(tǒng)浸泡式顯影因其操作簡便而被廣泛使用，但在片內(nèi)均勻性、化學品污染控制、工藝重復性等方面存在顯著瓶頸。近年來，以LaurellEDC-650Hz-8NPPB為代表的集成式濕法處理系統(tǒng)，通過噴淋-浸沒復合工藝、閉環(huán)控制與模塊化設計，正在重新定義濕法工藝的標準。傳統(tǒng)浸泡式顯影的...

隨著納米科技的發(fā)展，納米壓印光刻技術作為一種新興的微納加工技術，逐漸受到廣泛關注。在這一領域，Nanonex公司憑借其創(chuàng)新的納米壓印光刻機，推動了先進制造技術的發(fā)展，尤其在半導體、光電子和生物傳感器等領域展現(xiàn)了巨大的應用潛力。Nanonex納米壓印光刻機的工作原理：1.模具準備：首先，使用電子束光刻、X射線光刻或其他方法制備出具有納米級特征的模具。這些模具通常由硅或金屬材料制成，表面具有高精度的微細結構。2.涂布光刻膠：將光刻膠均勻涂布在基材表面。光刻膠是一種具有可塑性的材料...

革命性科研，設備護航：PIE等離子清洗機助力前沿神經(jīng)科學研究突破在發(fā)表于期刊的神經(jīng)科學研究中，科學家們成功開發(fā)出一種能夠靶向遞送siRNA至神經(jīng)元的新型納米載體，為治療阿爾茨海默癥、糖尿病變等神經(jīng)系統(tǒng)疾病帶來了新希望。該項研究的關鍵步驟之一——微流控芯片的PDMS表面處理與鍵合，正是由PIE等離子清洗機（型號：Tergeo）完成，確保了芯片的高效、無污染制備，為實驗的可重復性與精準性提供了堅實保障。選擇PIE等離子清洗機：精準表面處理：PIE等離子清洗機可在低溫下實現(xiàn)PDMS...

在材料科學、半導體制造、生物工程、納米技術及表面分析等前沿研究領域，獲得超潔凈、高活性的表面是實驗成功的關鍵。在這一精密環(huán)節(jié)，HARRICK等離子清洗機已成為數(shù)千家實驗室的標準配置。從哈佛大學、麻省理工學院到國內(nèi)高校及研究所，眾多課題組的設備列表中，都能見到HARRICK等離子清洗機的身影。部分公開使用HARRICK等離子清洗機的科研團隊示例：山東大學海洋研究院微流控芯片技術、信息與系統(tǒng)研究平臺：HARRICK等離子清洗機PDC002設備，所處理的材料表面帶來表面超潔凈、殺菌...